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超凈高純?cè)噭?/strong>公司從事超凈高純?cè)噭┑难邪l(fā)、生產(chǎn)和銷售近 20 年，是國內(nèi)目前主要的超凈高純?cè)噭┢髽I(yè)之一。公司的超凈高純?cè)噭┧较冗M(jìn)，多款產(chǎn)品達(dá)到 G4 等級(jí)，其中超凈高純雙氧水、超凈高純硫酸、超凈高純氨水三大類產(chǎn)品已實(shí)現(xiàn)整體技術(shù)突破，達(dá)到 G5 等級(jí)。

- 超凈高純?cè)噭?/h3>半/導(dǎo)/體/制/程/用

超高純雙氧水超高純硫酸超高純氨水

符合：SEMI Grade5 標(biāo)準(zhǔn)

適用于：14納米以上集成電路加工工藝

SEMI Grade5 For 14nm and further technology node

產(chǎn)品信息詳情

PRODUCTION BASE
品名產(chǎn)品應(yīng)用
雙氧水廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體前道濕法清洗工藝，包括顆粒、金 屬雜質(zhì)和有機(jī)物殘留的清洗
硫酸應(yīng)用于半導(dǎo)體前道光刻膠剝離和有機(jī)物殘留的清洗
氨水應(yīng)用于半導(dǎo)體前道particle及polymer的清洗
BOE應(yīng)用于半導(dǎo)體前道氧化硅的濕法蝕刻工藝
硝酸應(yīng)用于半導(dǎo)體前道硅蝕刻液及晶圓回收清洗
鹽酸應(yīng)用于半導(dǎo)體前道金屬雜質(zhì)的清洗去除
TMAH應(yīng)用于半導(dǎo)體前道光刻膠顯影劑和硅減薄工藝
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提示：購買、經(jīng)營(yíng)危險(xiǎn)化學(xué)品單位和個(gè)人要嚴(yán)格落實(shí)《危險(xiǎn)化學(xué)品安全管理?xiàng)l例》《易制爆危險(xiǎn)化學(xué)品治安管理辦法》的規(guī)定要求。個(gè)人不得購買劇毒化學(xué)品(屬于劇毒化學(xué)品的農(nóng)藥除外)和易制爆危險(xiǎn)化學(xué)品
危險(xiǎn)化學(xué)品經(jīng)營(yíng)許可證

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