公司近 30 年致力于光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)，光刻膠產(chǎn)品類型覆蓋高中低分辨率的 I 線、G 線紫外正性光刻膠、環(huán)化橡膠型負性光刻膠、化學增幅型光刻膠、厚膜光刻膠等類型，應用行業(yè)涵蓋 IC、TFT-array、LED、Touch panel、先進封裝等領域。
| 型號 | 產(chǎn)品簡介 | |
| RZJ-390PG | 用于TN、STN、C-STN、TP等制程 | |
| RZJ-390H | 高感光度，用于TN、STN、C-STN等制程 | |
| RZJ-304 | 高感光度，用于LED芯片及大規(guī)模集成電路制程 | |
| RZJ-305 | 用于雙層I TO保護用膠 | |
| RZJ-306 | 優(yōu)異的曝光能量寬容度，用于大規(guī)模集成電路制程 | |
| RZJ-306A | 優(yōu)異的曝光能量寬容度，用于大規(guī)模集成電路制程 | |
| RZJ-306B | 高耐熱高感光度性能，用于大規(guī)模集成電路制程 | |
| RZJ-307 | 優(yōu)異的粘附性能，用于大規(guī)模集成電路制程 | |
| RZJ-325 | G、L線通用，用于LED行業(yè)PSS制程 | |
| RZJ-325A5 | L線優(yōu)化，更高的圖形陡直度及選擇比，用于PSS制程 |
| 型號 | 產(chǎn)品簡介 | |
| RZJ-2500D | 用于TP行業(yè)關鍵層制程 | |
| RZJ-2500E | TING，用于曲面TP行業(yè)關鍵層制程 | |
| RZJ-3600 | 優(yōu)異的通孔性能，用于TFT-ARRAY制程 | |
| RZJ-3610 | 涂布性能優(yōu)良，用于TFT-ARRAY制程 | |
| RZJ-5312 | 極限分辨率0.35UM的I線光刻膠，用于IC關鍵層制程 | |
| RZJ-5513 | 極限分辨率0.5UM的L線光刻膠，用于IC關鍵層制程 | |
| RZJ-T3520 | 5~20UM厚膜光刻膠，用于先進封裝及LED深槽制程 | |
| RZJ-5313 | 為0.6UM通孔工藝優(yōu)化 | |
| RZJ-5312H | 極限分辨率0.4UM，感光速度更快，用于IC關鍵層制程 | |
| 型號 | 產(chǎn)品簡介 | |
| RFJ-210 | 高粘附高抗蝕環(huán)化橡膠型負性光刻膠，適用于分立器件臺面制程 | |
| RFJ-220 | 高分辨率高抗蝕環(huán)化橡膠負性光刻膠，適用于分立器件平面制程 | |
| RFJ-230 | RFJ-210改進型，更高抗蝕性產(chǎn)品，適用于分立器件臺面制程 | |
| RFJ-260 | RFJ-210臺面覆蓋改良型，適用于分立器件臺面制程 |
| 型號 | 產(chǎn)品簡介 | |
| RFJ-210G | RFJ-210改進型，適用于GPP光阻法工藝制程 | |
| RFJ-210B | 高抗蝕背面保護用膠，適用于分立器件臺面制程 | |
| RPN-1150 | 倒梯形型樹脂型負性光刻膠，適用于LIFT-OFF工藝制程 | |
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